气浮平台双工件台

　　气浮平台双工件台，则在一台光刻机里有2个承重晶圆的工件台。2个工件台互不相关，但是同时运作，一个工件舞台上的晶圆做曝出时，气浮平台另一个工件台对晶圆做测量等曝出前的准备工作。当曝出完毕之后，2个工件台交换位置和职责，这般周而复始完成光刻机的增产能。

　　纳米运动及测控技术是光刻机气浮平台双工件台的核心技术之一。

　　精度等级达μm或纳米其他定位与传送运动模块，其基本功能是承重晶圆依照指定运动运动轨迹做快速超运动并进行一系列曝出需要姿势，包含上下片、指向、晶圆脸形测量和曝出等，完成运动或精 准定位。

　　气浮平台运动系统软件性能确定整个设备机器的生产加工或检测精度，其速度和加速度则取决于整个设备机器的生产率。精度等级达μm或纳米其他定位与传送运动模块可广泛应用于半导体检测、PCB板曝出、LCD和OLED控制面板检验、生物检测、激光切割加工等业务领域。

　　气浮平台重复精度达±50nm的气浮平台，选用非接触气浮机滑轨、直线电机驱动和光栅尺意见反馈设备构成整个系统，气浮机滑轨根据汽体声响压效用，完成无摩擦和无振动的光滑挪动，与磨擦式滑轨对比，气浮平台的平行度、平整度等数据获得了非常大提升。

　　气浮平台并且由于非接触，伺服电机反映的追随偏差拥有质的变化，重复精度做到±50nm。具有高平行线、平整度、加工指标值，是国内特性优异的气浮机运动平台之一。

　　气浮平台可以作为双轴应用，也可根据运用与其他轴拼装成系统软件，是半导体材料晶圆检验、晶圆激光切割、晶圆封装形式等机械加工环节理想选择。